Rappelez-vous, il y a quelques semaines, nous vous disions dans cette news, Et si Intel avait en fait abandonné la gravure en 10 nm, que le géant bleu pourrait faire l'impasse sur le 10 nm. Une technologie qu'Intel ne maitrise pas, son process 10 nm DUV, pour 10 nm Deep Ultraviolet, étant disponible pour un seul et unique processeur pour le moment, le Core i3-8121U qui n'est qu'un deux Cores avec HT. Nous sommes donc loin, très loin, d'AMD et même des processeurs 14 nm+++ de la marque. De plus, Intel avait démenti cette information...
Mais les choses pourraient changer et avancer bien plus vite pour Intel. En effet, un nouveau process de fabrication serait sur les rails et ce dernier serait en 7 nm EUV, pour 7 nm Extreme Ultraviolet.
Un procédé qui exploite une longueur d'onde bien plus petite et qui évite ainsi de multiplier les structures lors de la lithographie du processeur. En effet, c'est là tout le problème du process en 10 nm d'Intel, il demande trop de structures, trop d'opérations et est donc tout simplement trop complexe a réalisé, d’où toutes les difficultés de la marque. Intel a tout simplement fait un mauvais choix de technologie, on peut le dire ainsi, et la marque le dit elle-même, elle a voulu sauter un gap trop important d'un coup.
Mais avec le 7 nm EUV, la longueur d'onde du laser permettant la création du processeur par lithographie est en 135 nm, contre 193 nm pour le processeur en 10 nm. Grâce à cela, Intel peut graver plus facilement ses processeurs en ayant moins recours à des tonnes et des tonnes de structures. Ainsi, le processeur est moins complexe et donc plus facile à produire.
Ce nouveau procédé devrait être tapped-out d'ici la fin de l'année et pourrait donc passer en production de masse en 2020, comme cela est normalement indiqué sur la feuille de route d'Intel. Intel précise ne pas abandonner le 10 nm et annonce une disponibilité pour l'année prochaine, mais à notre avis, la production ne sera jamais de masse sur ce procédé.
Mais les choses pourraient changer et avancer bien plus vite pour Intel. En effet, un nouveau process de fabrication serait sur les rails et ce dernier serait en 7 nm EUV, pour 7 nm Extreme Ultraviolet.
Un procédé qui exploite une longueur d'onde bien plus petite et qui évite ainsi de multiplier les structures lors de la lithographie du processeur. En effet, c'est là tout le problème du process en 10 nm d'Intel, il demande trop de structures, trop d'opérations et est donc tout simplement trop complexe a réalisé, d’où toutes les difficultés de la marque. Intel a tout simplement fait un mauvais choix de technologie, on peut le dire ainsi, et la marque le dit elle-même, elle a voulu sauter un gap trop important d'un coup.
Mais avec le 7 nm EUV, la longueur d'onde du laser permettant la création du processeur par lithographie est en 135 nm, contre 193 nm pour le processeur en 10 nm. Grâce à cela, Intel peut graver plus facilement ses processeurs en ayant moins recours à des tonnes et des tonnes de structures. Ainsi, le processeur est moins complexe et donc plus facile à produire.
Ce nouveau procédé devrait être tapped-out d'ici la fin de l'année et pourrait donc passer en production de masse en 2020, comme cela est normalement indiqué sur la feuille de route d'Intel. Intel précise ne pas abandonner le 10 nm et annonce une disponibilité pour l'année prochaine, mais à notre avis, la production ne sera jamais de masse sur ce procédé.
source : Anandtech
Marque : Intel
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Posté le 07 Décembre 2018 à 09:31 par Aurélien Lagny
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