Samsung a annoncé aujourd'hui que sa technologie de gravure FinFET en 5 nanomètres (nm) était prête que qu'elle allait être déployée pour échantillonnage auprès de ses clients. Basé sur un procédé Extreme Ultraviolet (EUV) ce nouveau process permet à Samsung de reprendre le leadership, surtout face à l'annonce de la semaine dernière de TSMC, voir cette actualité : TSMC progresse sur son process de fabrication 5 nm, les premières puces en 2020.
Comparée à la technologie 7 nm actuelle de la marque, la technologie de traitement FinFET 5 nm de Samsung offre une augmentation de 25% de la densité avec une consommation d'énergie réduite de 20% ou alors une hausse des performances de 10 %. Moins consommer ou aller plus vite, il faudra donc choisir.
Ce nouveau process de fabrication est compatible avec l'ancien process de fabrication en 7 nm de la marque ce qui permettra d’accélérer la transition et la production vers le 5 nm tout en réduisant les couts de développement.
Samsung devrait pouvoir proposant sa finesse de gravure en production de masse à partir de 2020.
Comparée à la technologie 7 nm actuelle de la marque, la technologie de traitement FinFET 5 nm de Samsung offre une augmentation de 25% de la densité avec une consommation d'énergie réduite de 20% ou alors une hausse des performances de 10 %. Moins consommer ou aller plus vite, il faudra donc choisir.
Ce nouveau process de fabrication est compatible avec l'ancien process de fabrication en 7 nm de la marque ce qui permettra d’accélérer la transition et la production vers le 5 nm tout en réduisant les couts de développement.
Samsung devrait pouvoir proposant sa finesse de gravure en production de masse à partir de 2020.
source : Fudzilla
Marque : Samsung
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Posté le 16 Avril 2019 à 15:44 par Aurélien Lagny
